HIPIMS PULS-STROMVERSORGUNGEN TYP MAGPULS HPP
Die Puls-Stromversorgungen der Serie MAGPULS HPP erzeugen - dank der kurzzeitig extrem hohen Strompulse - eine hochdichte Plasma-Intensität, wodurch eine hervorragende Beschichtungsqualität beim Hochleistungs-Impuls-Sputtern (HiPIMS) erreicht wird.
• Hervorragende Schichteigenschaften bezüglich Verschleißschutz, Haftfestigkeit, Härte und
Homogenität
• Einfache Integration in bestehende Magnetron-Sputtersysteme
EINSATZGEBIETE
EIGENSCHAFTEN UND NUTZEN
MODELLÜBERSICHT
EINSATZGEBIETE:
Neuartige PVD HiPIMS Sputterverfahren zur Erzeugung von Hartstoffschichten mit besonders guten Verschleiß- und Korrosionsschutzeigenschaften.
Pulsleistungen bis zu 12MW erzeugen eine extrem hohe Ionisationsdichte ohne dabei Materialtröpfchen (Droplets) zu bilden. Weitere Einsatzmöglichkeiten sind in der Plasma-Vorbehandlung von Oberflächen und Trench-filling und Ätzen.
EIGENSCHAFTEN UND NUTZEN:
Aktive ARC-Unterdrückung -> Vermeidung von Tropfenbildung bei erstklassiger Oberflächengüte
Limitierung des Pulsstroms -> Einfache Anpassung an die verschiedenen Prozessbedingungen zur Vermeidung von Überhitzungen am Substrat oder Magnetron
Pulsleistungen bis zu 12MW -> Ausgezeichnete Flexibilität für Prozesse in Forschung und Industrie
Regelung der Puls- und Pulspausezeiten -> Optimale Prozessstabilität und Schichtkontrolle
MODELLE | MAX. PULS-LEISTUNG | PULS-STROM | SPANNUNG | FREQUENZ | PULSDAUER |
---|---|---|---|---|---|
MP2-HC 200 | 10kW DC | 0–200A | 0–1000V | 100kHz | 5µs–300µs |
MP2-HC 400 | 20kW DC | 0–4000A | 0–1000V | 50kHz | 5µs–300µs |
MP2-HC 600 | 30kW DC | 0–600A | 0–1000V | 50kHz | 5µs–300µs |
MP2-HC 1000 | 60kW DC | 0–1000A | 0–1000V | 50kHz | 5µs–300µs |
MP2-HC 1500 | 90kW DC | 0–1500A | 0–1000V | 50kHz | 5µs–300µs |
Stromversogungen
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